Hoffmann Eitle - München, London

Patent- und Gebrauchsmusterrecht, in: Baum/Bälz, Handbuch Japanisches Handels- und Wirtschaftsrecht (Köln 2011), S. 837-963

Autor(en): Dr. G. Rahn, Dr. D. Schüßler-Langeheine, Dr. M. Dernauer, Dr. A. Petersen-Padberg, Dr. C. T. Steins, Dr. A. Dehner

Im Handbuch Japanisches Handels- und Wirtschaftsrecht stellen fünf Rechtsanwälte und ein Patentanwalt von Hoffmann · Eitle auf über 100 Seiten das japanische Patent- und Gebrauchsmusterrecht dar. Im einzelnen werden die folgenden Punkte behandelt

- Historische Entwicklung und jüngste Reformen
- Die Erfindung im Sinne des Patentrechts
- Materielle Voraussetzungen für die Erlangung eines Patents
- Das Recht an der Erfindung
- Die Erteilung, der Widerruf und die Berichtigung von Patenten
- Die Wirkungen von Patenten (Ansprüche wegen Patentverletzung)
- Die Grenzbeschlagnahme
- Der Patentverletzungsprozess
- Besonderheiten des Gebrauchsmusters